4年搞定5代CPU工藝:Intel4EUV年底投產(chǎn)18A已有客戶測試
在今天的財(cái)報(bào)會(huì)議上,英特爾還公布了其芯片技術(shù)的最新進(jìn)展,并重申了他們之前的目標(biāo),即在四年內(nèi)完成五代CPU技術(shù),即Intel 7,Intel 4,Intel 3,Intel 20A和Intel 18A,其中Intel 7是第12代酷睿,現(xiàn)在是第13代酷睿,重點(diǎn)是剩下的四代。
英特爾4是英特爾的第一個(gè)EUV工藝,這一代將使用EUV掩模對(duì)準(zhǔn)器英特爾4制程的惠普高性能庫密度可達(dá)1.6億晶體管/mm2,是目前英特爾7制程的兩倍,高于TSMC 5nm制程的1.3億晶體管/mm2,接近TSMC 3nm制程的2.08億晶體管/mm2
與Intel 7工藝相比,在相同功耗下,4納米EUV工藝的頻率提高了21.5%,功耗降低了40%。
英特爾技術(shù)將在其第14代酷睿流星湖上推出首席執(zhí)行官基辛格今天證實(shí),這項(xiàng)技術(shù)將于今年年底開始生產(chǎn)第14代酷睿,處理器和OEM客戶的產(chǎn)品將于2023年上市
Intel 4之后是Intel 3工藝,是前者的改進(jìn)版EUV光刻機(jī)將繼續(xù)使用,Intel 3制程也將對(duì)外提供OEM服務(wù)
然后是20A和18A,相當(dāng)于友商的2nm和1.8nm所以這兩代技術(shù)是英特爾的大殺器,是前兩個(gè)突破性的技術(shù),分別是RibbonFET和PowerVia
RibbonFET是英特爾實(shí)現(xiàn)的Gate All Around transistor,它將是該公司自2011年首次推出FinFET以來的第一個(gè)全新晶體管架構(gòu)。
該技術(shù)加快了晶體管的開關(guān)速度,同時(shí)實(shí)現(xiàn)了與多鰭片結(jié)構(gòu)相同的驅(qū)動(dòng)電流,但占用空間更小。
PowerVia是英特爾獨(dú)有的第一個(gè)背面電力傳輸網(wǎng)絡(luò),它通過消除晶圓正面的電源和布線需求來優(yōu)化信號(hào)傳輸。
英特爾的20A工藝預(yù)計(jì)由自己的第15代酷睿Arrow Lake推出,將于2024年上半年量產(chǎn)。
18A是在20A的基礎(chǔ)上改進(jìn)的不同的是,這一代工藝還會(huì)對(duì)外提供OEM服務(wù),所以比20A更受重視,進(jìn)步很快此前,英特爾也確認(rèn)18A工藝的量產(chǎn)時(shí)間將從2025年上半年提前至2024年下半年
至于18A工藝,英特爾首席執(zhí)行官基辛格表示,潛在客戶已經(jīng)在工廠做了流測試在之前9月底的創(chuàng)新大會(huì)上,英特爾提到18A的0.3版本已經(jīng)交付給客戶,現(xiàn)在進(jìn)展非常順利
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